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本文利用射频磁控溅射(RF sputtering)技术,通过调制氧氩比(OFR= [O2]/[Ar]).衬底温度(T)和溅射功率(P)在玻璃衬底上制备了一系列单相Ag2O薄膜,并重点研究了不同工艺参数对Ag2O薄膜的微结构和光学性质的影响。利用X射线衍射谱和扫描电子显微镜对薄膜的微结构和表面特性进行了表征；利用分光光度计、椭圆偏振光谱技术和经典的单振子模型研究了Ag2O薄膜的光学性质,并拟合了与薄膜光学性质相关的光学常数等物理参数。在此基础上,通过构建通用振子模型研究了薄膜的微结构和光学性质之间的关