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龋病是人类最常见的口腔疾病之一,而且通常来讲是不可逆转和永久性的。早期龋病一般采用再矿化法进行处理。目前,氟化物是使用最广泛的再矿化材料,但由于氟元素的毒副作用以及氟斑牙的产生,使得氟化物的使用受到限制。基于以上内容,本文采用明胶(GE)和甘氨酸改性的纳米羟基磷灰石(HAP-Gly)为原料,通过静电纺丝法制备出具有多孔结构的牙釉质再矿化贴膜,诱导无机物在脱矿牙釉质表面再矿化,并表征牙釉质再矿化的效果。主要研究内容及结果包括:(1)以明胶(GE)为原料,采用静电纺丝技术制备GE纤维,并通过正交实验,探索出GE的最佳纺丝参数。然后分别采用1-乙基-3-(3-二甲基氨基丙基)-碳化二亚胺(EDC)与戊二醛(GA)对GE静电纺丝纤维进行交联,并优选出一种交联方法用于后续材料的制备中。正交实验结果表明,当GE溶液的浓度为24%,纺丝正电压为22KV,接收距离为10cm时,纺丝效果最好。对比两种交联方法可知:EDC交联的力学性能较好,交联度较高,且无细胞毒性,有利于后续应用。(2)以氢氧化钙、磷酸和甘氨酸(Gly)为原料,采用共滴定法,制备甘氨酸改性纳米羟基磷灰石(HAP-Gly)粉体。通过X射线衍射仪(XRD)和透射电镜(TEM)对该粉体的成分和结构进行表征。结果表明:本实验所制备的HAP-Gly粉体无其他杂相生成,纯度较高。然而,由于Gly对HAP的结晶性能造成了一定的影响,改性后的HAP的衍射峰发生明显的宽化;HAP-Gly为晶簇棒状结构,长度约为50-130nm,直径约为5-15nm;通过对HAP-Gly粉体进行细胞毒性分析,证明其无细胞毒性。(3)以GE和HAP-Gly为原料,通过静电纺丝法制备GE/HAP-Gly复合纤维膜,并采用扫描电镜(SEM)和电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)对其结构以及矿化性能进行检测。SEM结果表明,HAP-Gly粉体颗粒之间团聚在GE纤维内部或表面,使得部分纤维表面突起,使得材料表面的粗糙度增大,有利于促进蛋白的吸附以及细胞的黏附与增殖。ICP-AES测试结果表明,GE/HAP-Gly复合膜的可以持续地释放钙、磷离子,为脱矿牙釉质的再矿化提供了良好的条件。(4)将GE/HAP-Gly纤维膜贴附于脱矿牙釉质表面,研究其对牙釉质表面再矿化的作用。通过显微硬度检测、扫描电子显微镜、X射线衍射等方式考察牙釉质表面再矿化的情况,结果表明:采用该纤维膜进行再矿化后,牙釉质表面显微硬度值(HV)增加了40.6 kg/mm~2,脱矿牙釉质表面的裂纹有了明显的缩小,且磷灰石晶格恢复到一定程度,证明GE/HAP-Gly纤维膜对牙釉质的再矿化有一定效果。