高硼硅玻璃是指B2O3含量大于10%、Si O2含量大于78%的硼硅酸盐玻璃,最早在1915年由美国康宁公司研发制备而成,并且获得了相关专利。高硼硅玻璃具有很多优异的性能,例如较低的热膨胀系数、较高的透光率和软化点、优异的耐腐蚀性能和力学性能。因此,高硼硅玻璃可广泛应用于生物制药、化工、建筑和民生等领域。近年来,高硼硅玻璃也越来越广泛地应用于各类生活用品中。而普通钠钙硅玻璃想要改性大多目前通过配方、制备环节、制备工艺的改良。成本高昂且投入研发较大。磁控溅射技术已经广泛应用于low-E玻璃,镀膜增透光学玻璃等镀膜玻璃工业化生产之中。利用磁控溅射靶材的灵活性,可以使得工厂在保留原生产线的前提下,将一条生产线通过更换靶材生产出不同的产品（张志学等,2016）。本文通过导电胶将高硼硅玻璃与铜背板结合制成实验靶材,利用射频磁控溅射技术成功地在玻璃及硅片衬底上沉积了高硼硅玻璃薄膜。研究了磁控溅射时间、溅射功率、溅射气压以及靶基距等工艺参数对高硼硅玻璃薄膜质量的影响。采用SEM、XRD、Labmda950、XPS、FTIR、台阶仪、纳米压痕仪等检测手段,对不同工艺参数制备的薄膜厚度、均一性、力学性能和光学性能进行了全面的比较与分析。本文的主要内容如下:1.论述了高硼硅玻璃的发展历史、发展趋势及应用领域,总结了高硼硅玻璃的优缺点,阐述了课题的研究背景及选题依据。2.采用射频磁控溅射技术制备了高硼硅玻璃薄膜;通过对实验工艺参数的调控研究了溅射功率、溅射时间、工作气压以及靶基距对所制备的高硼硅玻璃的薄膜结构、透光率、力学性能的影响;总结了工艺参数对薄膜结构和性能的影响规律并对其进行了具体的分析讨论。3.利用SEM分析了薄膜表面的微观形貌,探讨了溅射时间与成膜质量的关系;利用XRD分析了薄膜的结构,结果表明薄膜为非晶态结构;利用FTIR及XPS分析了薄膜表面的元素分布;利用台阶仪、纳米压痕仪器、紫外分光光度计和摩擦磨损仪分析了镀膜工艺参数对薄膜沉积速率、力学性能以及光学性能的影响,结果表明工作气压及溅射功率对薄膜的质量均有影响,溅射功率150W,工作气压0.6Pa,溅射时间75min为优化的实验条件。