随着磁头行业的发展，为了得到更好的使用性能和可靠性，磁头产品对清洗提出了更高的要求。第三代氯氟烃替代品之一—氢氟醚类化合物（HFEs）由于其优良的物化性能、较小的环境污染使得它在清洗、制冷等行业中有着广阔的应用前景。　　本文从溶剂HFEs的分子结构及其与其他较为典型的清洗溶剂作对比，来分析其应用在磁头行业清洗中的物理化学性能，讨论了其物理化学性能对清洗产生的影响。　　溶剂清洗包括溶剂浸泡清洗、溶剂超声清洗和溶剂蒸汽清洗，本文对溶剂HFEs作为溶剂清洗的清洗剂分别进行浸泡清洗实验和超声清洗实验，并与水基清洗作对比，从而得出溶剂清洗的清洗机理，找到溶剂清洗在清洗效率方面与水基清洗比较的优缺点，对于溶剂蒸汽清洗主要从磁头行业清洗工艺的角度进行了理论的探讨。　　清洗参数与清洗效果有着直接的关系，其中最为主要的是超声功率、超声频率、清洗温度、清洗时间，本文通过实验得到其与清洗效果之间的关系，并从理论的角度解释参数选择的依据，可以为工业清洗中清洗工艺的制定及改进提供理论依据。　　在HFEs应用在实际的清洗中，必须保证溶剂自身的各种参数如微观脏污含量、水分子含量、pH值等处于合格的稳定的水平，这样才能保证其在工业清洗中长期的应用。本文主要对其在工业应用时pH的变化进行了研究，找到了其变化的原因，研究表明溶剂HFE71IPA在清洗机中应用时各个缸中pH的变化是由于不同缸中溶剂的离子含量发生了改变，这一问题可以通过添加外部蒸馏设备，将沸腾缸中溶剂定期的在外部蒸馏设备中进行蒸馏后再注入清洗机中，使清洗机中溶剂的pH值可以保持在一个相对合适的范围，从而可以延长清洗机的使用寿命并且保证具有良好的清洗效果。