20世纪80年代发展起来的“纳米科技”引发了科技的深刻变革，给人们的工作和生活带来了翻天覆地的变化。“纳米科技”发展的源动力来自于微纳加工技术的进步。激光直写技术作为一种先进的微纳加工技术，已经获得广泛的应用，并引发了各研究单位对于此项技术研究的热潮。目前，国际上激光直写技术发展较为迅速，与其他技术相结合，在医学、消费电子、汽车电子、微光学、材料学等领域不断开疆拓土，而国内激光直写技术发展相对较晚，工艺水平较国际领先水平有相当的差距。随着国内各相关产业的发展，急需开展对激光直写技术原理、工艺、材料及其应用的研究，提升激光直写技术水平，满足国家相关产业的发展需求。　　 本论文的目的在于开发一套激光直写光刻系统，提供一种研究平台，为进行大范围、高速度、高精度的激光直写提供支持。　　 本论文首先介绍了各种微纳加工技术的特点，比较了激光直写技术同其它微纳加上技术的不同和优势，回顾了激光直写技术的国内外研究进展，分析了该技术的演进路线和发展趋势，阐述了本论文的研究目的和内容，然后介绍了系统原理、架构与设计，系统的分析了本系统及其各组成部分设计的原理和思路，最后设计实验验证本系统的实际效果。　　 本系统采用的主要技术有振镜扫描技术、自动聚焦技术、共聚焦成像技术和微纳拼接技术，本论文简要的分析了各种技术，着重分析了跟激光扫描相关的振镜扫描技术和自动聚焦技术，及其相关的控制系统，其中振镜扫描为激光扫描的主体，自动聚焦技术为保证。