GaAs基长波长光电子功能材料与器件研究

来源 :中国科学院半导体研究所 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhaoyuanhappy200
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互联网和数据传输业务的不断增长推动着光纤网络,特别是局域网和城域网对于带宽需求的快速发展。可直接调谐、无制冷、易于耦合封装的低成本、长波长发射和探测器件是其发展中的关键器件。目前光通信系统中所广泛采用的1.3μm和1.55μm激光器和探测器均由InP基InGaAsP/InP材料体系制备,对光通信的发展起到了很重要的作用,但其存在着导带偏移量小带来的特征温度低、材料折射率差小、耦合效率低和成本相对较高等问题。一种可行的解决方案是利用GaAs基材料系相对低的成本和较为成熟的工艺技术,发展GaAs基面发射激光器和共振腔增强型探测器。近年来GaAs基GaInNAs/GaAs量子阱和InAs量子点的研究取得了很大的进展,并显示出极大的潜力,但仍有许多问题需要解决。本工作主要针对GaAs基长波长1.3μm和1.55μm光电子材料和器件开展研究,其所涉及的研究内容和相应结果有以下几个部分:   1.理论和实验上对GaInNAs QW进行研究,利用分子束外延(MBE)结合射频等离子氮源进行材料生长研究。为了获得高质量GaInNAs,一方面采用在高In组分InGaAs中掺入微量N的方法实现波长向1.3μm的拓展,同时通过退火有效地提高材料质量。经过生长条件的优化,InGaAs中In的含量被成功提高到47.5%,光荧光PL谱中心波长为1.257μm,FWHM为30nm。在此基础上,通过微量氮的并入获得了高质量的GaInNAs量子阱,在国内首次研制成功室温连续工作1.3μm GaInNAs/GaAs量子阱激光器,激光器阈电流密度为980A/cm2,5℃-100℃温度范围内特征温度为132K。   2.为了进一步拓展波长至1.55μm,Sb被用来辅助GaInNAs材料的生长。研究显示Sb不仅起到表面活化剂的作用辅助材料生长,而且Sb作为合金元素被并入到GaInNAs中形成五元化合物GaInNAsSb,这两方面作用使得波长被有效地拓展,同时能够保持良好的晶体质量。通过优化Sb辅助生长条件结合原位退火,成功研制出世界上第一只1.586微米室温连续工作GaInNAsSb/GaAs量子阱激光器,实现了GaInNAsSb/GaAs激光器在通信波段的突破,激光器阈值电流密度2.45A/cm2,激射波长1.587μm,激光器的特征温度在温度小于40℃时,T0=81 K;温度超过40℃,T0=28K。   3.系统研究InAs自组织量子点的生长以及QD光学和结构特性,首次在国内研制出室温连续激射GaAs基长波长量子点激光器,室温连续激射波长达到1331nm,最高基态连续激射温度达摄氏65度,单层量子点阈值电流密度低达50A/cm2,基态1.33-1.35μm输出功率达到350mW。   4.对1.3μm GaAs基VCSEL开展深入研究,通过对VCSEL器件结构设计,VCSEL器件制备中的关键工艺以及相关的中间检测技术的研究,有效提高了VCSEL的利用率和器件制备的成功率,在国内首次成功研制出GaAs基1.3μm室温工作面发射激光器。   5.从理论和实验上系统地研究了RCE-PD的结构和特性,在国际上首次成功研制出GaAs基1.55μm GaInNAs量子阱RCE探测器。上、下反射镜分别采用25对和9对GaAs/AlAs DBR;为获得高的量子效率要求有较大的有效吸收系数αd,因此设计采用6层InGaNAs量子阱。探测器峰值响应波长1551nm,响应半宽10nm,0V偏压下响应度0.12A/W,-3V偏压下为0.42A/W,对应量子效率为33%,响应时间小于1ns,在0 V的偏压下,暗电流为3×10-3pA/(um)2;-5V偏压下暗电流为0.43pA/(um)2,RCE-PD上升时间800ps。   6.对一种新型1.55μm低温生长GaAs(LT-GaAs)RCE-PD进行了研究。研究表明由于深能级或As反位杂质的存在,LT-GaAs可实现对长波长(1000nm-1600nm)光信号的吸收,并且具有极短的载流子寿命。采用MBE低温200℃生长GaAs材料作为长波长吸收层,我们成功制备出1.55u m波段的全结构共振腔增强型光探测器,具有创新性。探测器具有极低的暗电流密度,光电流谱峰值波长为1563nm,半宽为4nm,峰值波长响应度为7.1mA/W。根据瞬态光致载流子弛豫时间测试分析,LT-GaAs具有200fs的载流子寿命。
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