【摘 要】
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光栅尺作为位移传感器,已广泛应用于精密测量仪器中,随着对测量精度要求的不断提高,对光栅尺的质量也提出了更高的要求。光栅的刻划质量直接影响其产生的莫尔条纹信号质量,而
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光栅尺作为位移传感器,已广泛应用于精密测量仪器中,随着对测量精度要求的不断提高,对光栅尺的质量也提出了更高的要求。光栅的刻划质量直接影响其产生的莫尔条纹信号质量,而栅距误差是评价光栅刻划质量的重要指标,因此精确测量光栅的栅距,对于提高光栅产品的质量具有重要意义。激光干涉比长仪是检定线纹尺的最高等别装置,主要针对刻线间距为0.1mm和1mm的标准线纹尺进行测量,而对于间距小于0.02mm的光栅类特殊线纹尺,难以实现直接测量。为了满足工业上对于光栅检测的需求,本文设计了基于高倍率双狭缝光电显微镜的测量系统,可直接应用在激光干涉比长仪上对微密刻线间距进行动态测量,从而实现了对光栅类特殊线纹尺线间距的检定。本文的主要研究内容有:(1)设计双光路刻线信号采集系统对光栅的刻线进行动态瞄准,应用光电倍增管实现对光栅微密刻线像的光电转换;(2)设计信号处理电路,对两路光电信号进行处理,提取刻线瞄准位置并输出脉冲信号进行指示;(3)搭建双频激光干涉测量系统对刻线间距进行测量;采用热电偶等传感器构建一套高精度温度、湿度、压力补偿系统,对空气折射率进行实时补偿,提高激光干涉仪测量精度;(4)搭建实验平台,对多种规格的光栅样板进行测量,验证瞄准读数系统的测量能力。
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