【摘 要】
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低温等离子体表面沉积是一种新兴的表面处理技术。其主要特点如下：仅作用于材料表面,常常只有几个微米或纳米量级,材料主体性能受到的影响极小；相对于传统的湿式表面处理方
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低温等离子体表面沉积是一种新兴的表面处理技术。其主要特点如下：仅作用于材料表面,常常只有几个微米或纳米量级,材料主体性能受到的影响极小；相对于传统的湿式表面处理方法具有清洁环保,节省能源等优势；可以获得一些其他方法所得不到的沉积效果,扩大了一些材料的应用领域,并提高了其使用价值。因此,低温等离子体表面沉积技术近年来受到越来越多的关注。工业化低温等离子体沉积设备如等离子增强化学气象沉积(PECVD)装置,由于其等离子体处理区域很大,只靠气体的自由扩散会造成沉积区域内工作气体分布不均匀,进而导致薄膜沉积质量较差,无法满足功能要求。因此,PECVD 反应室内的气体均布及气体分配管路系统优化设计,已成为工业化生产亟待解决的关键问题。
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