【摘 要】
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用MgO作为基片,用光加热法和直流磁控溅射成功地在基片上淀积了YBCO薄膜,Tc为86~87K.本文介绍了进行薄膜淀积前对MgO基片的高温热处理,经实验测试,发现生长在淀积前经高温热处理的MgO基片上的YBCO薄膜,其薄膜特性有了很大的提高.
【机 构】
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中国电子科技集团公司电子十六所,合肥,230043
【出 处】
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第八届全国超导薄膜和超导电子器件学术会议
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用MgO作为基片,用光加热法和直流磁控溅射成功地在基片上淀积了YBCO薄膜,Tc为86~87K.本文介绍了进行薄膜淀积前对MgO基片的高温热处理,经实验测试,发现生长在淀积前经高温热处理的MgO基片上的YBCO薄膜,其薄膜特性有了很大的提高.
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