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激光直写系统是制作光刻掩模和ＡＳＩＣ器件的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室引进了国内第一台激光直写系统。利用这台系统，通过高精度激光束在光致杭蚀剂上扫描曝光，能把设计图形直接转移到掩模版或芯片上。该文介绍激光直写系统在ＡＳＩＣ器件制作中的应用和具体工艺。
激光直写系统在ASIC器件制作中的应用
【摘 要】
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激光直写系统是制作光刻掩模和ＡＳＩＣ器件的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室引进了国内第一台激光直写系统。利用这台系统，通过高精度激光束在光致杭蚀剂上扫描曝光，能
【机 构】
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科学院光电技术研究所(成都)
【出 处】
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第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议
【发表日期】
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1999年期
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