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半金属是自旋电子学应用中最重要的一类材料,其100%的自旋极化率为自旋电子器件设计提供了极大的便利.Co2FeSi半金属哈斯勒合金薄膜由于其理论上100%的自旋极化率成为了自旋注入源材料的选择之一,对其结构和物性的研究很有必要.我们用直流磁控溅射的方法在单晶硅薄膜上制备了100nm的Co2FeSi薄膜.XRD结果表明这层薄膜为非晶结构.利用PPMS测量了不同温度下膜的电输运性质.