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该文研究了直流电弧等离子体球化U<,2>Si<,2>的工艺装置。利用Ar+He混合的等离子体对10-150μm的U<,2>Si<,2>微粉进行球化。球化率达90℅。
直流电弧等离子体球化U<,3>Si<,2>工艺研究
【摘 要】
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该文研究了直流电弧等离子体球化USi的工艺装置。利用Ar+He混合的等离子体对10-150μm的USi微粉进行球化。球化率达90℅。
【机 构】
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中国科学院力学所
【出 处】
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第九届全国等离子体科学技术会议
【发表日期】
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1999年期
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