Cr-Al-N涂层制备工艺对成分及组织结构的影响

来源 :广东省真空学会2011年学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：rgzgjh

【摘要】

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采用纯金属靶和多弧离子镀技术在M2高速钢基体上制备Cr-Al-N涂层,采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)及X射线(XRD)研究了制备工艺对涂层成分及组织结构的影响.结果表明,调制Al靶

【作者】

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肖新生苏东艺彭继华贺祖发田君

【机构】

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华南理工大学材料科学与工程学院,广州510640;广州今泰科技有限公司,广州510520广州今泰科技有限公司,广州510520华南理工大学材料科学与工程学院,广州510640东莞理工学院机械工程系,东

【出处】

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广东省真空学会2011年学术年会

【发表日期】

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2011年12期

【关键词】

：

钢铬-铝-氮涂层多弧离子镀组织结构涂层成分

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采用纯金属靶和多弧离子镀技术在M2高速钢基体上制备Cr-Al-N涂层,采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)及X射线(XRD)研究了制备工艺对涂层成分及组织结构的影响.结果表明,调制Al靶、Cr靶电流比IAl/ICr可以制备Cr1-xAlxN涂层,且其中x可以在0.15～0.6间变化.所制备Crl-xAlxN涂层晶体结构均呈现面心立方结构fcc-CrN.随着IAl/ICr增大,涂层中Al含量增多,fcc-CrN相的衍射峰向右偏移,晶格常数越小.随着Al含量的增加,涂层中尺寸大于或等于2.0μm的大颗粒数量比例增多.

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