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射频磁控溅射法制备立方氮化硼厚膜
射频磁控溅射法制备立方氮化硼厚膜
来源 :第9届中国金刚石相关材料及应用学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhoulinqin274385037
【摘 要】
:
立方氮化硼(c-BN)是一种具有闪锌矿结构的高硬度、耐辐射、耐腐蚀、抗高温的宽禁带(Eg=6.4eV)多功能性材料,易于实现n型和p型摻杂,具有负电子亲和势.在机械、电子、物理化
【作 者】
:
赵艳;殷红;李红东;
【机 构】
:
吉林大学,超硬材料国家重点实验室,130012,中国长春
【出 处】
:
第9届中国金刚石相关材料及应用学术研讨会
【发表日期】
:
2015年期
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立方氮化硼(c-BN)是一种具有闪锌矿结构的高硬度、耐辐射、耐腐蚀、抗高温的宽禁带(Eg=6.4eV)多功能性材料,易于实现n型和p型摻杂,具有负电子亲和势.在机械、电子、物理化学等方面都具有独特的性质,但是制备高品质c-BN薄膜、厚膜一直是超硬材料领域的研究热点和难点之一.
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