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采用直流磁控溅射原理,用环靶结构和光加热方法,对φ50mm大面积超导薄膜的制备工艺进行了探索,采用多基片拼组的方法进行模拟,Tc～86-87K.介绍溅射装置和光加热器的设计思想,并对工艺中出现的有关问题进行了讨论.
光加热法制备大面积YBCO薄膜实验研究
【摘 要】
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采用直流磁控溅射原理,用环靶结构和光加热方法,对φ50mm大面积超导薄膜的制备工艺进行了探索,采用多基片拼组的方法进行模拟,Tc～86-87K.介绍溅射装置和光加热器的设计思想,并
【机 构】
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信息产业部电子第十六研究所(合肥)
【出 处】
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第六届全国超导电子器件学术会议
【发表日期】
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2001年7期
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