TiO2 由于其性质稳定、无毒、低成本和易掺杂改性等优点,是一种理想的半导体光催化材料,在光催化领域得到了广泛的应用.由于其禁带宽度较宽,TiO2 只能利用太阳光中的紫外光部分(5％).钨元素掺杂是一种常用的金属离子掺杂以扩展其光响应波长的有效改性方式[1-3].在Ti、双氧水和三聚氰胺的反应体系中加入钨酸,辅以后续热处理实现一步法制备钨掺杂的TiO2 纳米带薄膜,通过改变反应体系中钨酸的添加量对钨的掺杂量以及产物形貌进行调控.反应体系中不添加钨酸,得到的形貌为纳米线结构；钨酸添加量较少时,得到TiO2 纳米带结构；进一步增加钨酸用量,纳米带顶端发生融合(图1).随着钨酸添加量的增加,产物中钨元素的含量随之增加(图2).此外,随着钨酸的加入,产物在可见光区域的反射率明显下降,说明其对可见光的吸收增强,如图1d 所示；其中,钨酸添加量为0.5 g 时,产物在300—550 nm 区间内的反射最低,吸收最强.将这些样品用于氙灯照射降解0.005 mM 若丹明B,结果如图3 所示.钨酸用量为0.5 g 时所得薄膜对罗丹明B 的降解性能最佳.