【摘 要】
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本文以单晶Si(111)为基底,在硼酸镀液体系中采用电结晶法制备Cu/Co多层膜,确定了工艺条件.用X射线衍射(XRD)对多层膜的结构进行了表征,显示多层膜具有超晶格结构和良好周期性
【机 构】
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上海大学理学院化学系,上海,200444
【出 处】
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2005年上海市电镀与表面精饰学术年会
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本文以单晶Si(111)为基底,在硼酸镀液体系中采用电结晶法制备Cu/Co多层膜,确定了工艺条件.用X射线衍射(XRD)对多层膜的结构进行了表征,显示多层膜具有超晶格结构和良好周期性.并用物性测量系统PPMS测试了不同结构Cu/Co多层膜的磁性能.结果表明:巨磁阻GMR性能与多层膜结构有关.GMR值随Co磁性层厚度增长先增大后减小,有一极值;随着Cu非磁性层厚度的增加GMR值发生周期性的振荡;随周期数N的增大,GMR值先增大,在N为60时达到了90％,随着N的继续增加而减小,当达到80周期时,GMR值趋于稳定.
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