【摘 要】
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介绍了采用OPSC溶浸式湿法化学清洗工艺,同时使用串联的SC-1槽和兆声功能来去除颗粒,使用含O的去离子水形成均匀硅氧化膜,最后用IPA干燥.整个系统采用多功能全自动的清洗,生
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介绍了采用OPSC溶浸式湿法化学清洗工艺,同时使用串联的SC-1槽和兆声功能来去除颗粒,使用含O<,3>的去离子水形成均匀硅氧化膜,最后用IPA干燥.整个系统采用多功能全自动的清洗,生产出的100mm、125mm、150mm抛光硅片,达到较理想的清洗效果.本文对进一步消除IPA干燥后的边缘目检缺陷(edge spot)做了几点探讨,使抛光硅片的目检缺陷降低在可控范围内.
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