APPLEⅡ微型机离子注入均匀性测量系统

来源 :第三届全国计算机在核科学技术中的应用学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wangxiding138
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该系统以APPLEⅡ微型机为主设备,以四探针为辅设备,用于在半导体离子注入技术中采用范德堡法和四探针法测量离子注入的均匀性。均匀性是通过测薄层电阻确定的。探针转换及电流换向电路将电流引向应施加电流的一对探针,从另一对探针采回电压值,并按测量要求由程序控制进行电流的换向和探针的换接。采得的电压量经A/D转换器转换成BCD码数字量,由I/O接口电路输入到APPLEⅡ微机中进行数据处理。控制系统工作的程序是用APPLESOFTBASIC语言和6502汇编语言写成的。该文按功能对程序作了简单介绍。(李大光摘)
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