基于砷化镓m-i-n结构的太赫兹源器件设计与优化

来源 :2014`全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会暨第七届中国微纳电子技术交流与学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qq619609199
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利用砷化嫁m-i-n结构设计并制作了反射式太赫兹源,器件可耐50 kV/cm以上的场强,频宽可以达到4 THz以上,半高全宽可以达到2.7 THz。但现在仍然存在一个问题一太赫兹辐射强度低,如何提高泵浦光的吸收,以及增强光生电子一空穴对的复合来提高辐射效率是这个课题现在努力的方向。
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