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【摘 要】
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原子层沉积技术(atomic layer deposition,ALD),一种可对膜厚进行近似亚单层(sub-monolayer)的精确控制的化学气相沉积技术,在深亚微米集成电路和纳米结构的制备上显示出
【机 构】
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南京大学 现代工程与应用科学学院 材料科学与工程系固体微结构物理实验室,南京210093
【出 处】
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2010(第三届)中国微纳电子技术交流与学术研讨会
【发表日期】
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2010年期
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