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通过常规共沉积法（CECD），在悬浮SiC微粒的Watts型镀镍镀液中制备Ni-Sic复合镀层。研究了搅拌、电流密度和镀液中SiC微粒浓度对复台镀层中SiC微粒含量的影响，并通过扫描电子显微镜及X-射线能谱仪对复合镀层表面进行形貌观察与成分分析。
Ni-SiC复合镀技术研究
【摘 要】
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通过常规共沉积法（CECD），在悬浮SiC微粒的Watts型镀镍镀液中制备Ni-Sic复合镀层。研究了搅拌、电流密度和镀液中SiC微粒浓度对复台镀层中SiC微粒含量的影响，并通过扫描电子显微镜
【机 构】
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五研究所青岛分部
【出 处】
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1998年全国腐蚀电化学及测试方法学术讨论会
【发表日期】
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1998年期
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