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Determination of OH radical in HCHO/O2/N2/H20 dielectric barrier discharge plasmas using near infrar
【机 构】
:
Laboratory of Plasma Physical Chemistry, Box 288, Dalian University of Technology, Dalian l16024,Chi
【出 处】
:
9th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology
【发表日期】
:
2008年期
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