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在发生磁头表面污染的清洗工序收集了被污染的样品并提取了水样，用检查后表面无污染的磁头通过清洗用水浸泡准备了模拟样品；用原子力显微镜和超级扫描电子显微镜对两种磁头样品形貌进行观察。结果表明，污染物由纳米微粒组成；采用飞行时间二次质谱仪、透射电子显微镜和能量损失谱仪表征了两种样品的污染物成分和微观结构，确定出两种样品污染物同为SiO2胶体；用电感耦合等离子体质谱仪检测污染发生时清洗用水水样，发现硅含量严重超标，模拟样品由此类水制成，从而推断出SiO2胶体造成水处理过程中的反渗透膜和离子交换树脂失效，使大量SiO2胶体流入清洗用水造成磁头表面污染。