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介绍光刻技术分类及工作原理，国际国内光刻设备研究动态，国际国内差距，分析存在问题；讨论光刻设备涉及的关键技术：紫外和深紫外投影物镜、精密工件台步进与同步扫描技术、对准与套刻技术、焦面检测与调平技术、紫外和深紫外照明技术、压印技术、数字光刻技术、双面套刻技术、深曝光技术等；中科院光电所开发的相应设备的技术性能、配置、外观，包括光学投影光刻、深层光刻、双面光刻、数字光刻、大面积光刻、压印光刻等，以及下一步研究规划。