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Modelling of the effects of VHF on silicon film deposition at atmospheric pressure
【机 构】
：
School of Physics and Optoelectronic Technology,Dalian University of Technalogy,Dalian,116024,China
【出 处】
：
第十五届全国等离子体科学技术会议
【发表日期】
：
2011年期
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