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随着半导体工业的迅速发展,集成电路的生产已由大规模进入超大规模阶段,半导体工艺也发展到亚微米的水平.常规光学显微镜的放大倍数上限约为1200倍左右,在这样的放大倍数下,景深已非常小,于是扫描电子显微镜便得到日益广泛的应用.
IC SEM剖面分析技术研究
【摘 要】
：
随着半导体工业的迅速发展,集成电路的生产已由大规模进入超大规模阶段,半导体工艺也发展到亚微米的水平.常规光学显微镜的放大倍数上限约为1200倍左右,在这样的放大倍数下,
【机 构】
：
东北微电子研究所
【出 处】
：
第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会
【发表日期】
：
2003年期
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