【摘 要】
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采用营养液栽培法,研究了四个根际温度梯度处理(20℃、25℃、30℃、35℃)对黄瓜幼苗生长及地上部、地下部生理生化指标的影响。结果表明：25℃处理下黄瓜幼苗的生长量、叶
【机 构】
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上海市农业科学院园艺研究所,上海市设施园艺技术重点实验室
【出 处】
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2013中国园艺学会设施园艺分会学术年会蔬菜优质安全生产技术研讨会暨现场观摩会
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采用营养液栽培法,研究了四个根际温度梯度处理(20℃、25℃、30℃、35℃)对黄瓜幼苗生长及地上部、地下部生理生化指标的影响。结果表明：25℃处理下黄瓜幼苗的生长量、叶片相对叶绿素含量(SPAD)及根系活力都大于其他三个处理,35℃处理使得以上指标明显下降；20℃、25℃处理下叶片的净光合速率(Pn)较大,且叶片与根系中积累的淀粉较多：根际30℃、35℃高温使得黄瓜幼苗叶片和根系中的POD活性升高,CAT活性降低,叶片中SOD、APX活性均随根温的升高而升高,而根系中则表现出了下降趋势；叶片和根系的电解质渗漏率、丙二醛(MDA)含量在25℃下最低,35℃处理下最高,且35℃处理下叶片中脯氨酸(Pro)及可溶性蛋白含量最高,但根系中显示最低。因此认为,四个根际温度中,25℃最适合黄瓜幼苗的生长,35℃处理下根系受伤害加重,抑制了植株整体的生长。
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