低碳含量a-SiC<,x>:H薄膜的化学键结构

来源 :第四届全国微米/纳米技术学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:shenlixi44
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本文采用Raman测量研究了低碳含量a-SiC<,x>:H(~<20at.℅)薄膜的结构特征,两种不同激光波长被用来激发这些材料.采用647.1nm激发中,由于能量接近于各样品的光学带隙,因而具有较大的透射深度,而488nm激发则被样品表面强列吸收.探测深度的变化造成了Raman谱较大的差异,这些结果表明样品的自由表面存在一层高浓度的缺陷层,同时也证明样品体内硅团簇结构的存在.这两种空间的不均性造成了高能激发时Raman谱的TO模频率和半高宽比低能激发时有大的红移和展宽,以上结果表明不同激发波长将造成Raman测量结果的差异.
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