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对ｎ－Ｓｉ（１００）基底上蒸发的锰薄膜，通过固相反应法作成ＭｎＳｉ与ＭｎＳｉ〈，１．７〉薄膜。具体的说就是，经过对Ｍｎ（薄膜）／Ｓｉ（１００）系统进行各种温度不同时间的热处理，得出：大约４００℃左右、３０分钟的热处理得到了ＭｎＳｉ薄膜；大约６００℃左右、１小时的热处理得到了ＭｎＳｉ〈，１．７〉薄膜。对于制成的这两种硅化物薄膜，通过Ｘ射线衍射法（ＸＲＤ）和软Ｘ射线发射分光光谱法（ＳＸＥＳ）对它们进行了确定。