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当前，超疏液材料的主要制备方法包括随机和规则的倒悬微纳米结构制备及低表面能处理。前者一般是化学处理，成本较低但性能难以控制;后者性能优异但成本高昂，一般采用光刻、电子束定义图形并需要反应离子刻蚀、深刻蚀等复杂昂贵的工艺手段，严重受限于极少数材料和工艺，需要针对特定材料设计不同的工艺，材料和工艺高度耦合。为结合两种方法的优点，制备低成本、高性能、适合于量产的超疏液材料，我们提出一套新颖的微加工工艺，可将精细可控的T型微结构转印到各种可固化材料上，包括塑料、树脂等各种高分子材料上。这套工艺包括可控“过刻蚀光刻”技术以及基于弹性体的“软复制”工艺。