热历史对等离子体喷涂热障涂层残余应力分布的影响

来源 :第十七届国际热喷涂研讨会暨第十八届全国热喷涂年会(CNTSC`2014) | 被引量 : 0次 | 上传用户：nemosan

【摘要】

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以等离子体喷涂工艺制备7.5wt％ Y2O3部分稳定的ZrO2(YSZ)热障涂层经1100℃恒温热处理200h.分别采用拉曼光谱法和荧光压谱法表征陶瓷层和热生长氧化物层(TGO)中的残余应力.结果

【作者】

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杨加胜钟兴华赵华玉王亮邵芳陶顺衍

【机构】

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中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海201899;中国科学院上海硅酸盐研究所,上海201899;中国科学院大学,北京100049中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海201899;中国科学院上海硅酸

【出处】

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第十七届国际热喷涂研讨会暨第十八届全国热喷涂年会(CNTSC`2014)

【发表日期】

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2014年10期

【关键词】

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氧化钇稳定氧化锆热障涂层等离子体喷涂工艺残余应力拉曼光谱法荧光压谱法

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以等离子体喷涂工艺制备7.5wt％ Y2O3部分稳定的ZrO2(YSZ)热障涂层经1100℃恒温热处理200h.分别采用拉曼光谱法和荧光压谱法表征陶瓷层和热生长氧化物层(TGO)中的残余应力.结果表明:制备态陶瓷层中为张应力,热处理后转变为压应力.随着热处理时间由50h增至150h,压应力逐渐增大,随后压应力略微下降;TGO层中产生的残余压应力在前50h快速增大,并致极大值,随后逐渐降低.

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