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硅基表面无形貌改变的无机酸氧化亲水化处理方法的研究
硅基表面无形貌改变的无机酸氧化亲水化处理方法的研究
来源 :第五届全国化学工程与生物化工年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gcq1987
【摘 要】
:
本文提出了一种利用无机酸氧化无形貌改变的硅基亲水化处理和清洗方法。研究了传统的清洗方法和无机酸氧化清洗方法对硅基的清洗效果。原子力显微镜(AFM)检测表明,经无机酸氧化清洗后,硅基表面无形貌改变。
【作 者】
:
毛强强
文路
刘善堂
【机 构】
:
武汉工程大学绿色化工过程省部共建教育部重点实验室,化工与制药学院,武汉430073
【出 处】
:
第五届全国化学工程与生物化工年会
【发表日期】
:
2008年11期
【关键词】
:
半导体器件
硅基
化学清洗
无机酸氧化
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本文提出了一种利用无机酸氧化无形貌改变的硅基亲水化处理和清洗方法。研究了传统的清洗方法和无机酸氧化清洗方法对硅基的清洗效果。原子力显微镜(AFM)检测表明,经无机酸氧化清洗后,硅基表面无形貌改变。
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