【摘 要】
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利用俄歇电子能谱仪(AES)对不同时间过电流下的铜导体进行了深度刻蚀,结果表明在不同时间过电流下的铜导体样品表面都含有Cu、O、C、N、Cl等元素,且随着刻蚀时间的增加,样品
【机 构】
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公安部沈阳消防研究所 火场勘验与物证鉴定公安部重点实验室,辽宁 沈阳 110034
【出 处】
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第十二届全国高校金相与显微分析学术年会
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利用俄歇电子能谱仪(AES)对不同时间过电流下的铜导体进行了深度刻蚀,结果表明在不同时间过电流下的铜导体样品表面都含有Cu、O、C、N、Cl等元素,且随着刻蚀时间的增加,样品中C、O原子百分比值逐渐降低,且过电流时间越长的样品,C、O原子百分比曲线下降的越平缓:以溅射时间为Os和30s时的原子百分比值之差来表示曲线的斜率,C、O原子百分比曲线的斜率都逐渐减小;在同一深度下,不同过电流时间样品所含原子的分布规律相同,即C[％]>O[％]>Cl[％]。
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