【摘 要】
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A technique which incorporates a laser scattering model with a high dynamic range CCD sensor for surface roughness measurement of a semi-conductor wafer has
【机 构】
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Department of Mechanical Engineering,National University of Singapore
【出 处】
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INternational Conference on Product Design and Manufacturing
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A technique which incorporates a laser scattering model with a high dynamic range CCD sensor for surface roughness measurement of a semi-conductor wafer has been developed.The technique employs a He-Ne laser and an optical set-up to record surface roughness in the nanometer range.A 12 bit high dynamic range CCD camera capable of displaying up to 4096 gray levels is incorporated in the experimental set-up.Tests are conducted on several semi-conductor wafers and various parameters for roughness measurement are employed.Results obtained are compared with conventional stylus and AFM methods and that of a lower dynamic range CCD sensor.
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